| ||||||||||||||||||||||||||||||||
Скачать ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требованияДата актуализации: 01.06.2025
| ||||||||||||||||||||||||||||||||
| Обозначение: | ![]() ГОСТ 25196-82 |
| Статус: | действующий |
| Название рус.: | Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования |
| Название англ.: | Vacuum equipment. Apparatus for ion implantation. General technical requirements |
| Дата актуализации текста: | 06.04.2015 |
| Дата актуализации описания: | 01.07.2023 |
| Дата издания: | 04.05.1982 |
| Дата введения: | 01.07.1983 |
| Код ОКП: | 627335 |
| Содержит требования: | СТ СЭВ 2760-80 |
| Нормативные ссылки: | ГОСТ 24786-81 |
| Область применения: | Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,666 57х10 в ст. минус 27 до 217,534 67х10 в ст. минус 27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6х10 в ст. минус 15 до 1,6х10 в ст. минус 13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники |
| Расположен в: | |


